EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
CMP polijst schuurmiddel
| Plaats van herkomst: | China |
| Merk: | Semixlab |
| Model nummer: | SXL-1 |
| Certificering: | ISO14001, ISO45001, ISO9001 |
| Minimum bestelhoeveelheid: | Onder voorbehoud van onderhandeling |
| Prijs: | Neem contact op voor een offerte op maat |
| Details van de verpakking: | Standaard exportpakket |
| Levertijd: | 15-30 dagen na orderbevestiging |
| Betalingscondities: | T / T |
| Capaciteit van de levering: | 10 ton/maand |
Beschrijving
CMP (Chemical Mechanical Planarization) polijstmiddel is een belangrijk materiaal in de halfgeleiderindustrie, optisch glas, geïntegreerde schakelingen en dergelijke. Het bereikt een oppervlakteafvlakking op nanoschaal door het synergetische effect van chemische corrosie en mechanisch slijpen.
Toepassing:
CMP-polijstmiddelen zijn belangrijke materialen op het gebied van de productie van geïntegreerde schakelingen en kunnen worden gebruikt bij ILD's van geïntegreerde schakelingen, monokristallijne siliciumwafers van halfgeleiders, siliciumcarbide van halfgeleiders, ondiepe sleufisolatie (STI) van geïntegreerde schakelingen, polysilicium (Poly-Si) van geïntegreerde schakelingen, metalen van geïntegreerde schakelingen en metalen barrièrelagen.
Diensten die wij kunnen leveren:
analyse van klanttoepassingsscenario's, afstemmen van materialen, oplossen van technische problemen.
Bedrijfsprofiel:
Semixlab beschikt over 2 laboratoria, een team van experts met 20 jaar ervaring in materialen, met R&D- en productie-, test- en verificatiemogelijkheden.
Specificaties
Prestatie-indicatoren voor producten uit de ultrahoge zuiverheidsserie
| Parameter | SXL-1 | SXL-2 | SXL-3 | SXL-4 | SXL-5 | SXL-6 | SXL-7 |
| Gemiddelde silicadeeltjesgrootte/nm | 35 5 ± | 45 5 ± | 65 5 ± | 75 5 ± | 85 5 ± | 100 5 ± | 120 5 ± |
| Nanodeeltjesgrootteverdeling (PDI) | |||||||
| pH van de oplossing | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 |
| Vastestofgehalte/% | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± |
| het Uiterlijk | Lichtblauw | Blauw | Wit | Gebroken wit | Gebroken wit | Gebroken wit | Gebroken wit |
| Deeltjesmorfologie X | X:S- bolvormig;B- gebogen;P- pinda-vormig;T- bolvormig;C- kettingvormig (geaggregeerde toestand) | ||||||
| Stabiliserende ionen | Organische/anorganische aminen | ||||||
| Grondstofsamenstelling Y | Y:M-TMOS;E-TEOS;ME-TMOS+TEOS;EM-TEOS+TMOS | ||||||
| Metaalverontreinigingsgehalte | ≤300 ppb | ||||||
Toepassingen
Belangrijkste toepassingsgebieden
| Toepassingsrichting: | Typisch scenario |
| Productie van halfgeleiders | Geïntegreerde schakelingen (IC's) en halfgeleidermaterialen van de derde generatie |
| Optica en displaytechnologie | Optisch glas, lens en displaypaneel |
| Storage Devices | Harde schijfplaten en 3D NAND-flashgeheugen |
| Geavanceerde verpakking | Wafer-level packaging (WLP), TSV (via silicium) |
| Andere hoogwaardige toepassingen | MEMS (Micro-Elektro-Mechanische Systemen) en Medische Implantaten |
Goedkeuring voor ecologische ketenverificatie
Semixlab CMP polijstschuurmiddelen voldoen aan de certificering van de halfgeleiderindustrie en hebben de ISO 14001/45001/9001-certificering behaald
Typische aanvraagprocedure
Grondstof → Schuurmiddelsynthese (oppervlaktemodificatie) → Slibformulering (filtratie/pH-aanpassing) → CMP-polijsten (EPD-controle) → Nareiniging → Inspectie (AFM/KLA) → Optimalisatie van gegevensfeedback
Door optimalisatie van procesparameters heeft het Semixlab CMP polijstmiddel baanbrekende vooruitgang geboekt op het gebied van hoogwaardige halfgeleider-IC's, geleidelijk de import op de halfgeleidermarkt vervangen en is het met succes toegepast bij de productie en vervaardiging van LCD-, OLED- en andere displaypanelen. Neem contact op met ons technische ondersteuningsteam voor gedetailleerde technische whitepapers of het aanvragen van monstertests.
Concurrentievoordeel
Voordelen van Semixlab CMP polijstschuurkern
a.Vrij instelbare deeltjesdiameter en mate van deeltjesaggregatie;
b.Monodisperse deeltjes met een uniforme deeltjesgrootteverdeling;
c.Stabiel verspreidingssysteem;
d. Grootschalige productiecapaciteit met minimale variatie van batch tot batch;
e.Zeer stabiel, bestand tegen agglomeratie en sedimentatie.
Onze diensten
Semixlab Productwinkel
Semixlab CMP polijstschuurwerkplaatsen
