Alle Categorieën
Kwarts onderdelen
Halfgeleider kwarts wafer boot
Halfgeleider kwarts wafer boot

Halfgeleider kwarts wafer boot


Quick Detail:

1. Andere namen: Halfgeleiderkwartstank, kwartsbad voor halfgeleider, kwartstank voor halfgeleider.

2. Toepassing: De halfgeleiderkwartswaferboot wordt gebruikt voor hogetemperatuurprocessen zoals diffusie, oxidatie, CVD, gloeien, enz. in de halfgeleiderproductie.

3. Kernparameters:

Kwarts met ultrahoge zuiverheid (> 99.99% SiO₂): voorkomt verontreiniging door metaalionen (Na +, K +, Fe³ +, enz.) en voldoet aan de reinheidseisen van geavanceerde processen (< 5 nm knooppunten).

Hoge temperatuurbestendigheid: continue werktemperatuur 1200℃, directe temperatuurbestendigheid 1300℃.

Chemisch inert: bestand tegen procesgassen zoals HCl, H₂, O₂, SiH₄ en zure/alkalische omgevingen. Niet-corrosief voor langdurig gebruik.

Beschrijving

Semixlab Semiconductor Quartz waferboten zijn belangrijke lagergereedschappen, ontworpen voor hogetemperatuurprocessen zoals diffusie, oxidatie, CVD, gloeien, enz. in de halfgeleiderproductie. Gemaakt van zeer zuiver synthetisch kwarts met uitstekende temperatuurbestendigheid, chemische stabiliteit en lage thermische uitzettingscoëfficiënt, kunnen ze wafers stabiel dragen in zware procesomgevingen om procesconsistentie en productopbrengst te garanderen.

Toepasbare apparatuur: Compatibel met alle soorten horizontale/verticale diffusie-ovens (horizontale/verticale diffusie-ovens), LPCVD-systemen en snelle warmtebehandelingsapparatuur (RTP).

Kwaliteitsverzekering

Strikte kwaliteitscontrole: 100% lekdetectie met heliummassaspectrometrie (lekkage <1×10⁻⁹ mbar·L/s). Voor elke batch wordt een rapport over de zuiverheid van het materiaal (ICP-MS-test) opgesteld.

Certificeringsnormen: In overeenstemming met de SEMI F47-specificaties, via de ISO 9001:2015-certificering van het kwaliteitsmanagementsysteem.

Levensduur: de gemiddelde levensduur bedraagt ​​onder normale omstandigheden meer dan 2 jaar (afhankelijk van de procesfrequentie en de temperatuuromstandigheden).

Waarom zou u voor onze kwartsboot kiezen?

Aangepaste diensten: Aangepaste afmetingen en constructie volgens het apparatuurmodel (TEL, Kokusai, ASM, enz.) en procesvereisten.

Snelle reactie: De standaard levertijd bedraagt ​​3 weken, voor spoedbestellingen kan de levertijd worden teruggebracht tot 10 werkdagen.

Wereldwijd servicenetwerk: Biedt technisch advies, installatiebegeleiding en aftersales-onderhoudsondersteuning. Materiaalspecificaties.

Specificaties

Projectspecificatie

Materiaalsynthese Gesmolten Kwarts

Zuiverheid ≥99.99% SiO₂

Compatibel met waferformaat 8", 12" (kan worden aangepast naar 6" of 18")

Bedrijfstemperatuur ≤1200°C (continu) / 1300°C (piek)

Thermische uitzettingscoëfficiënt (CTE) 0.55×10⁻⁶/°C (20-1000°C)

Oppervlakteruwheid (Ra) ≤0.2 μm

Standaardcapaciteit 25/50/100 tabletten

Toepasbare procesgassen O₂, N₂, H₂, Ar, SiH₄, HCl, enz.

mechanische eigenschappen Dichtheid (g/cm3) 2.2
Mohs hardheid 6-7
Druksterkte (MPa) 1100
Treksterkte (N/mm2) 50
Buigsterkte (N/mm2) 65
Torsiesterkte (N/mm2) 30
Young's modulus (MPa) 7.2x104
De verhouding van Poisson 0.16
Thermische eigenschappen Thermische uitzettingscoëfficiënt (20~320℃,k-1) 5.5x10-7
Thermische geleidbaarheid (20℃,W·m-1k-1) 1.4
Soortelijke warmte (20℃, J·kg-1k-1) 670
Verwekingspunt (℃) 1700
Gloeipunt (℃) 1180
Rekpunt (℃) 1080
Elektrisch eigendom Elektrische weerstand (Ω·m) 1x1016(20 ℃)
Diëlektrische constante (10 GHz) 3.74
Diëlektrisch verlies (10 GHz) 0.0002
Diëlektrische sterkte (V·m-1) 3.7x107
Toepassingen

Oxidatie/diffusie bij hoge temperatuur: doping van silicium (diffusie van fosfor en boor), groei van gate-oxide.

Dunne filmafzetting: LPCVD polykristallijn silicium, siliciumnitride (Si₃N₄)-afzetting.

Gloeiproces: gloeien na ionenimplantatie (RTA), metaallegering.

Halfgeleider van de derde generatie: siliciumcarbide (SiC), galliumnitride (GaN) epitaxieproces.

Concurrentievoordeel

1. Materiaaleigenschappen

Kwarts met ultrahoge zuiverheid (> 99.99% SiO₂): voorkomt vervuiling door metaalionen (Na +, K +, Fe³ +, enz.) en voldoet aan de reinheidseisen voor geavanceerde processen (< 5 nm knooppunten).

Hoge temperatuurbestendigheid: continue bedrijfstemperatuur van 1200°C, directe temperatuurbestendigheid van 1300°C, geen vervormings- of kristallisatierisico.

Chemische inertie: Bestand tegen procesgassen zoals HCl, H₂, O₂, SiH₄ en zure/alkalische omgevingen. Niet-corrosief bij langdurig gebruik.

2. Precisieontwerp

Optimaliseer de structuur:

De nauwkeurigheid van de sleufafstand bedraagt ​​±0.05 mm, waardoor een nauwkeurige positionering van de wafer (8/12 inch) wordt gegarandeerd en krassen of verschuivingen worden voorkomen.

Thermisch schokbestendig ontwerp, geschikt voor snelle stijging en daling (verwarmingssnelheid ≤20°C/min).

Lage deeltjesvorming: het oppervlak is uiterst nauwkeurig gepolijst (Ra ≤0.2 μm) om de hechting en het afvallen van deeltjes te minimaliseren.

3. Gediversifieerde configuratie

Optionele capaciteit: Ondersteunt 25 stuks, 50 stuks, 100 stuks en andere standaardspecificaties. Ook een niet-standaard slotnummer kan worden aangepast.

Type aanpassing: Open boot, gesloten boot of speciaal boottype (zoals een ontwerp voor een afleidingskanaal op de bodem van de boot).

FAQ

V1: Kunt u niet-standaardmaten of een speciaal ontwerp leveren?

A1: Semixlab ondersteunt maatwerkdiensten, waaronder maataanpassing, temperatuurbovengrens (materiaalupgrade vereist) of interfacetype. Neem contact op met het technische team van Semixlab voor specifieke vereisten.

Q2: hoe lang is de doorlooptijd?

A2: De levertijd voor standaardproducten bedraagt ​​4-6 weken, en de ontwerp- en verificatietijd voor aangepaste producten bedraagt ​​2-3 weken.

V3: Biedt u technische ondersteuning na verkoop?

A3: Ja, wij bieden levenslang technisch advies en noodhulpdiensten. Bij installatie- of gebruiksproblemen kunt u het supportteam te allen tijde per e-mail of telefoon bereiken.

V4: Voldoet het product aan de normen van de halfgeleiderindustrie?

A4: Ja, het productieproces voldoet aan de SEMI-normen en is gecertificeerd volgens het ISO 9001-kwaliteitsmanagementsysteem. Elke batch wordt vóór het verlaten van de fabriek getest op luchtdichtheid, temperatuurbestendigheid en zuiverheid.

ONDERZOEK

Populaire categorieën